فناوری ساخت مدارهای مجتمع- قسمت دوم
فناوری ساخت مدارهای مجتمع- قسمت دوم
لیتوگرافی نوری یا به اختصار لیتوگرافی، فرآیندی شبیه عکاسی است. در این فرآیند، نور یا پرتوهای الکترومغناطیس دیگر نظیر پرتوری فرابنفش (UV) با عبور از یک الگو یا ماسک، به سطح ویفری برخورد میکند و بدین ترتیب الگویی را که بر روی ماسک طراحی شده به سطح ویفر منتقل میکند. لیتوگرافی نوری اولین قدم درانتقال اطلاعات مربوط به الگوی مدار بر روی ویفر است. به طور خلاصه، زنجیرهی مربوط به لیتوگرافی در هر لایه شامل یک ماسک و سه مرحله پردازش است که عبارت است از:
1. پوشاندن ویفر با فوتورزیست
2. تنظیم ماسک روی ویفر و تابش نور
3. زُدودن فوتورزیست ظاهر شده
دو نوع فوتورزیست در فرآیند لیتوگرافی به کار میرود: فوتورزیست منفی که در نواحی که نور به آن تابیده میشود، سفت میشود. در حالی که فوتورزیست مثبت در نواحی که نور به آن نخورده، سفت میشود. در فرایند ساخت مدارهای مجتمع از هر دو نوع این فوتورزیست ها استفاده می شود.
1. پوشاندن ویفر با فوتورزیست
2. تنظیم ماسک روی ویفر و تابش نور
3. زُدودن فوتورزیست ظاهر شده
دو نوع فوتورزیست در فرآیند لیتوگرافی به کار میرود: فوتورزیست منفی که در نواحی که نور به آن تابیده میشود، سفت میشود. در حالی که فوتورزیست مثبت در نواحی که نور به آن نخورده، سفت میشود. در فرایند ساخت مدارهای مجتمع از هر دو نوع این فوتورزیست ها استفاده می شود.
ادامه مطلب